【市场概况】直写光刻设备产业链知识图谱及未来发展趋势预测报告
直写光刻也称无掩模光刻，是指计算机控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上，无需掩模直接进行扫描曝光。近年来，全球经济增速放缓，下游行业承压发展，直写光刻设备市场规模呈波动态势，2024年随着下游行业明显回暖，直写光刻设备市场规模恢复增长态势，同比
光刻
MetaOptics在中国台湾部署直写式激光光刻系统
前沿半导体光学公司MetaOptics Ltd已在位于中国台湾桃园的品颉奈米光学股份有限公司(Pin-Jye Nano Technologies Co., Ltd.)部署其直写式激光光刻系统。此次安装使超透镜的原型机设计与制造更贴近该地区的半导体供应链，标志着
激光 光刻 台湾 metaoptics 激光光刻 2025-09-25 09:51 6
MetaOptics在台湾部署直写式激光光刻设备，助力原型机设计与生产
新加坡2025年9月24日 /美通社/ -- 前沿半导体光学公司MetaOptics Ltd（新加坡交易所凯利板上市代码：9MT）已在位于台湾桃园的品颉奈米光学股份有限公司(Pin-Jye Nano Technologies Co., Ltd.)部署其直写式激
激光 光刻 原型机 metaoptics 激光光刻 2025-09-24 17:46 5
上海光机所在全息光刻研究方面取得进展
近日，中国科学院上海光学精密机械研究所高端光电装备部李思坤研究员团队在全息光刻研究方面取得进展。相关成果以”Synthetic holographic mask design for computational proximity lithography us
清华课题组在跨尺度结构混合光刻制备技术领域取得重要进展
随着半导体制造、精密光学加工及大型光学系统的发展，纳米级定位技术已成为现代工业与科研中的关键技术。光栅干涉测量因其高分辨率、多自由度和结构紧凑等优势，被广泛应用于高精度位移测量领域。然而传统增量式光栅虽具高精度，却缺乏绝对位置标记，限制了其在动态运行和长期测量
光刻逆袭战：中国八大核心企业如何破局，芯片界的封锁
芯片好比现代工业的粮食，光刻机就是种粮食的那亩"金土地"。世界上最牛的光刻机要价动不动就数亿美元，堪称设备界的"爱马仕"，能造出比头发丝细万倍的电路。
2025年中国直写光刻设备行业市场调查研究报告-华经产业研究院
直写光刻设备是半导体、微电子、微纳制造领域的核心精密装备，其核心原理是无需依赖物理掩模版，直接将设计好的二维/三维图形数据通过激光、电子束、离子束等能量载体，逐点、逐线或逐面“写入”到涂覆有光刻胶的衬底（如硅片、玻璃、柔性基板等）表面，最终经显影、蚀刻等后处理
台积电持续提升EUV光刻效率，6年晶圆产量增加了30倍
台积电作为全球最大的先进制程晶圆代工厂，不仅拥有着全球最先进的制程工艺，也拥有着数量最多的ASML EUV光刻机。自2019年以来，台积电通过自身的系统级优化及自研EUV光罩保护膜（Pellicle，保护光罩的薄膜）材料，EUV生产晶圆产量累计增加30倍，同时
外媒：光刻机市场变天了！
近日，相关方面前脚刚宣布“暂停进口半导体制造相关设备的审批”，后脚阿斯麦（ASML）便因高达2550亿元的订单损失，股价暴跌14%。这不仅使其损失了全年三分之一的产能来源，而且已制造完成的17台极紫外光刻机和23台蚀刻设备也只能闲置在工厂，任其生锈。对此外媒纷
2nm 时代，High NA不是唯一解
半导体行业正在重新评估其制造最先进芯片的长期路线图。高数值孔径（High-NA）光刻技术曾被视为实现亚2纳米节点微型化的必由之路，但现在正被人们与其他选择进行权衡。
砥砺前行二十载，恒坤新材IPO注册生效
近日，恒坤新材科创板IPO注册生效的消息传来，这一消息在半导体材料行业引发了广泛关注。这家成立于2004年的企业，走过了从传统光电膜业务向集成电路关键材料战略转型的非凡历程。
Rigaku发布无损检测3D闪存缺陷技术获半导体光刻国际学会最高奖项
Rigaku Holdings Corporation旗下的株式会社Rigaku（东京都昭岛市）宣布开发出了利用超高分辨率X射线显微镜对3D闪存缺陷进行无损检测和测量的突破性技术，并凭借此项研究成果获得了半导体光刻技术领域最佳论文奖“The Diana Nyy
半导体制造的光刻工艺常用光刻胶系列
TOK提供多种类型的光刻胶，以满足各种光刻需求。这包括正胶、负胶、i-线、g-线、深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）光刻胶等。
证监会同意恒坤新材上交所科创板IPO注册
9月12日，中国证监会发布《关于同意厦门恒坤新材料科技股份有限公司首次公开发行股票注册的批复》。据悉，恒坤新材拟在上交所科创板上市，中信建投证券为其保荐机构，拟募资10.07亿元。
光刻技术深度解析（半导体制造的 “灵魂工艺”）
以 0.13μm 制程、4 个金属层的 CMOS 芯片为例，它的 474 道制造工序里，212 步与光刻曝光直接相关，105 步依赖光刻胶图案转移
覆盖多家头部晶圆厂，恒坤新材为12寸芯片制造提供“国产保障”
作为境内少数具备12英寸集成电路晶圆制造关键材料研发和量产能力的创新企业，成立于2004年的厦门恒坤新材料科技股份有限公司（以下简称：恒坤新材），始终专注于集成电路领域关键材料的研发与产业化应用，凭借在光刻材料与前驱体材料领域的深耕，成功填补多项国内空白，成为
微图案芯片制作
微图案芯片制作是一项在电子工程和材料科学领域日益受到关注的技术。微图案芯片，顾名思义，是指在微米级别上制作的具有特定图案的芯片。这种技术的应用范围广泛，包括信息技术、通信、传感器和消费电子等领域。本文将从微图案芯片的制作过程、技术优势、应用前景等几个方面进行详
年营收9.8亿元，“隐形冠军”恒坤新材冲击科创板IPO
这已是该公司二度上会，资料显示，恒坤新材科创板IPO在2024年12月26日获得受理，2025年7月25日首次上会，不过遭到了暂缓审议。
中国光刻机四路突围，开启芯片制造新纪元
国产光刻机的消息越来越多，它们有什么区别？简单说这就是一场由农村包围城市的光学逆袭。从实验室到生产线，从科研突破到商业落地，国产光刻机正从四个方面来阻击美西方的光学霸权，四大门派已经形成。
外媒：为何中国大力发展芯片产业，但仍落后世界领先者10年以上
著名芯片行业媒体Tomshardware9月8日撰文对中国芯片产业发展进行深入分析：在中国雄心勃勃的半导体产业版图中，一幅充满矛盾的景象正徐徐展开。一方面，国家主导的巨额投资催生了中芯国际（SMIC）、长江存储（YMTC）等一批能够在全球市场参与竞争的芯片制造